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湿法刻蚀处理系统
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湿法刻蚀处理系统匀胶机保罗 应用于高分子材料
湿法刻蚀处理系统匀胶机保罗 应用于高分子材料有特定规范与标准,应用于电子/半导体行业领域。点击查看相关规范标准。 基片范围 一、POLOS Advanced系列湿法刻蚀处理系统产品介绍我们的
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小型混匀机
这款混匀仪为转速可调设计,zui大3000转/分钟。共有两种运作方式,分别为点动和连续运作。点动模式下,需要将离心管按压在仪器顶部的振动头上,仪器就会开始振动;而连续运作模式下,无需按压,仪器便会
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匀胶机
匀胶机(SPIN COATER/SPINNER) SAWATEC AG成立于1996年。创始人Sawatzki父子将两人在半导体行业长期积累的经验与技术完美的结合,设计制造出
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匀胶机
。 匀胶机有许多名称:甩胶机、涂胶机、涂层机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂膜仪等, 主要应用于溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作。其工作原理是高速旋转基片
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匀胶机
匀胶机、匀胶台、涂层机、涂胶机、涂膜机涂布机、旋转涂膜仪等。匀胶机的工作原理是高速旋转基片,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,匀胶机常用于各种溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作
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VTC-200-CSC 柜式匀胶机
VTC-200-CSC 柜式匀胶机采用全PP耐腐蚀全柜式设计,满足工业级别手动匀胶需求,配备自动点胶功能确保了匀胶和点胶过程中的重复性。 产品名称VTC-200-CSC 柜式匀胶机主要特点1、耐腐蚀
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美国Laurell湿法刻蚀显影机EDC-650Mz-15NPP-湿法刻蚀设备
匀胶显影机(英文名:Developing) 产地:美国 一、产品概述: 650型匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面显影。一般匀胶显影机由
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Ossila匀胶机
Ossila匀胶机英国Ossila公司匀胶机,操作简单,方便实用,旋涂均匀,结构小巧紧凑,为实验室提供了理想的解决方案,其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘,无需真空泵或充氮气,就能达到很好的旋涂
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匀胶机吸盘
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